2026.05.15by 배종인 기자
한양대학교 연구팀이 SK하이닉스와의 산학협력을 통해 순수 이산화규소(SiO₂)를 활용한 선택 소자를 개발하고 동작 원리를 규명했다. 차세대 고집적 메모리 구조에서 요구되는 안정성과 공정 호환성을 동시에 확보하는 기술로 평가된다.
2026.04.17by 배종인 기자
고려대 유현용 교수와 DGIST 권혁준 교수팀이 패턴 기반 무종자 레이저 결정화(PSLC)로 만든 실리콘층(p?Si)과 산화물 반도체(n?IGZO)를 수직 적층한 상보형 게인셀(CGC) 구조를 세계 최초로 구현해, 2T0C DRAM의 속도와 감지 능력을 동시에 끌어올렸다.
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